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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMD2000人造高速石墨分散機(jī)

    人造高速石墨分散機(jī),人造石墨的制造石墨烯,人造石墨烯分散機(jī)是將人造石墨和溶液,以及分散劑在一定的條件下預(yù)混,然后通過(guò)SGN研磨分散機(jī)研磨分散,即可再生產(chǎn)合格的。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000光觸媒高速研磨分散機(jī)

    光觸媒高速研磨分散機(jī),應(yīng)對(duì)納米級(jí)物料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,納米級(jí)漿料進(jìn)入研磨分散后,先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開(kāi),然后再經(jīng)過(guò)分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000硫酸鋇研磨高速分散機(jī)

    硫酸鋇研磨高速分散機(jī),對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來(lái)的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SGN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000石蠟粉研磨高速分散機(jī)

    石蠟粉研磨高速分散機(jī)是石蠟加工核心設(shè)備,專注石蠟粉細(xì)化與分散,適配橡塑、涂料、潤(rùn)滑材料等生產(chǎn)場(chǎng)景。高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生強(qiáng)剪切力,實(shí)現(xiàn)石蠟粉高效研磨,窄化粒徑分布。提升粉體分散均勻性,避免團(tuán)聚,保障后續(xù)加工適配性。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000陶瓷隔膜漿料研磨分散設(shè)備

    陶瓷隔膜漿料研磨分散設(shè)備是制備高性能陶瓷隔膜的核心設(shè)備,主要用于將陶瓷粉體、粘結(jié)劑等物料均勻分散并細(xì)化。

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    2025-11-17

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  • GMD2000胃溶性包衣高速研磨分散機(jī)

    胃溶性包衣高速研磨分散機(jī)GM2000采用了三級(jí)錯(cuò)齒磨頭定轉(zhuǎn)子,磨頭定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.7之間,間隙可通過(guò)調(diào)節(jié)高速研磨機(jī)本身的調(diào)節(jié)柄來(lái)調(diào)節(jié)設(shè)備間隙,在轉(zhuǎn)速不變的情況下,間隙越小,速膠體磨研磨、分散效果會(huì)越好。

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    2025-11-14

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  • GRS2000納米氧化鋅超細(xì)的分散機(jī)

    納米氧化鋅超細(xì)的分散機(jī)采取直立式設(shè)計(jì),使物料可以全部進(jìn)入分散腔,符合工藝要求和流體力學(xué)要求,增加其工作效率,z低處出口的出料設(shè)計(jì)符合生產(chǎn)要求,垂直的壓力使得該機(jī)器工作更加穩(wěn)定,同時(shí)便于清潔。

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    2025-11-14

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  • GRS2000沉淀法白炭黑分散機(jī)

    沉淀法白炭黑分散機(jī),實(shí)現(xiàn)混合分散粒徑要求的關(guān)鍵部分,是由兩層分散頭構(gòu)成,分散頭由定子齒列和轉(zhuǎn)子齒列構(gòu)成,構(gòu)成z理想的分散剪切的幾何學(xué)形狀,在馬達(dá)帶動(dòng)下,在齒列間隙中獲得的平均線速度非常高,能實(shí)現(xiàn)高達(dá)10000rpm的剪切率來(lái)獲得超細(xì)微懸浮液。

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    2025-11-14

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